Plasmalis 的 C-Acne Clear 利用等离子能量从源头杀灭痤疮细菌。这项源自 Plasmalis 设备的创新技术通过介质阻挡放电 (DBD) 释放微弱电场。该磁场与空气中的水蒸气相互作用，将水蒸气分解成羟基自由基、臭氧和过氧化氢。这三种自由基都是强效杀菌剂，能够破坏毛孔中滋生的细菌、酵母菌和真菌，使其脱落。这能有效去除老旧角质细胞，收缩毛孔，并在首次治疗后即可展现更明亮、更清透的肌肤。
Plasmalis 的 C.Acne Clear 是如何起作用的？
Plasmalis 设备的创新技术在于通过介质阻挡放电 (DBD) 发射微弱电场。当设备接触皮肤不同部位时，磁场会与空气中的水滴相互作用，将水蒸气分解成羟基自由基 (OH)、臭氧 (O3) 和过氧化氢 (H2O2)。这三种自由基都是强效消毒剂，能够破坏毛孔中滋生的细菌、酵母菌和真菌，使其脱落。这可以有效去除老旧角质，收缩毛孔，并在首次治疗后即可展现更明亮、更清透的肌肤。
